Des produits

DESCRIPTION

Informations de base

Modèle NON.	RAY-OS099#
Biréfrengence (souche)	10nm/cm et moins
Fluorescence	Non autorisé (longueur d'onde excitée 254nm)
Coefficient de dilatation thermique	5.5*10(-7)
Forfait transport	Caisse en bois
spécification	500*500*500
Marque déposée	Ohara
Origine	Japon
Code SH	2811229000
Capacité de production	100000kg par an

Description du produit

Introduction générale: La silice fondue synthétique CFS-100 à procédé VAD résulte d'améliorations significatives apportées à la méthode conventionnelle VAD (dépôt axial en phase vapeur) de la technologie de fabrication de fibres optiques, développée par OHARA, Japon.OHARA CFS-1300 est extrêmement pur et beaucoup plus faible en teneur en OH que la méthode directe traditionnelle, ce qui en fait la première silice fondue synthétique utilisable dans les industries des semi-conducteurs et des écrans à cristaux liquides.OHARA CFS-100 est la technologie de pointe dans les caractéristiques optiques car il offre une transmission ultraviolette élevée, aucune micro-inclusion et une résistance à la solarisation, en plus de la résistance à la chaleur, de la résistance mécanique et de la résistance chimique. 1300 verre optique, etc.Résistance chimique :

Solution	Température de traitement(ºC)	Temps de traitement(H)	Résultats de test
H20	95	45	0,0001-0,0002
1/100 NHNO3	115	20	0,005-0,01
5% NaOH	100	dix	1,35

Qualités optiques :

Article	Grade
Bulles	0-0.03mm2/100cm3
Traces	Grade A dans une direction (selon Mil-G-174)
Biréfrengence (souche)	10nm/cm et moins
Fluorescence	Non autorisé (longueur d'onde excitée 254nm)

Propriétés physiques:

Article	Unité	Valeur
Densité	g/cm3	2.201
Module de Yong	Kg/mm2	7280
Coefficient de Poisson		0,17
Force de compression	Kg/mm2	115
Résistance à la flexion	Kg/mm2	7.0
Résistance à la traction	Kg/mm2	5.6
Rigidité torsionnelle	Kg/mm2	3150
Dureté Vickers	Kg/mm2	900-1030
Dureté Knoop	Kg/mm2	650-710
Coefficient de dilatation thermique	cm/cm°C	5.5*10-7
Point de ramollissement	C	1700
Point de recuit	C	1160
Point de déformation	C	1060
Chaleur spécifique(26ºC)	Cal/g.ºC	0,176
Rapport de conductivité thermique(26ºC)	cal/cm.sec.ºC	2.65*10-3
Rapport de conductivité thermique(100ºC)	Cal/cm.sec.ºC	3.27*10-3

Principaux champs d'application :

Champs d'application :

Ce produit peut être utilisé dans une grande variété d'applications industrielles pour les semi-conducteurs, l'optique et toutes les recherches liées à la physique ou à la chimie présentant ces applications : 1). Wafers pour différents types d'appareils tels que TFT (LCD à transistor à couche mince poly-Si), SOI (silicium sur isolant), etc. 2). Substrats de masque photo pour ultra-LSI et LCD. 3). Tubes, gabarits et outils de four à réacteur pour les procédés de fabrication ULSI.4). Tubes pour lampes à décharge électrique.5).Éléments optiques, lentilles, miroirs et hublots, pour ultraviolets et ultraviolets sous vide.

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